焊接工艺 | 浏览量 : 0 下载量: 5 CSCD: 0
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    • Cu箔缓冲层对SiO2/TC4接头组织性能的影响

    • Microstructure and Properties of SiO2/ TC4 Brazed Joint with Cu Buffer Layer

    • 2024年54卷第7期 页码:62-67   

      纸质出版日期: 2024-07-25

    • DOI: 10.7512/j.issn.1001-2303.2024.07.09     

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  • 薛行雁,龚浩,程东海,等.Cu箔缓冲层对SiO2/TC4接头组织性能的影响[J].电焊机,2024,54(7):62-67. DOI: 10.7512/j.issn.1001-2303.2024.07.09.
    XUE Hangyan, GONG Hao, CHENG Donghai, et al.Microstructure and Properties of SiO2/ TC4 Brazed Joint with Cu Buffer Layer[J].Electric Welding Machine, 2024, 54(7): 62-67. DOI: 10.7512/j.issn.1001-2303.2024.07.09.
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