智能新核 增材未来 | 浏览量 : 0 下载量: 64 CSCD: 0
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  • 专辑

    • 增材制造碳化硅微观结构的离子辐照行为

    • Ion Irradiation Behavior of Additively Manufactured Silicon Carbide Microstructure

    • 2026年56卷第4期 页码:98-104   

      收稿:2025-12-09,

      修回:2026-02-25,

      纸质出版:2026-04-20

    • DOI: 10.7512/j.issn.1001-2303.2026.04.12     

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  • 郭帅科,胡逊祥,滕常青,等.增材制造碳化硅微观结构的离子辐照行为[J].电焊机,2026,56(4):98-104. DOI: 10.7512/j.issn.1001-2303.2026.04.12.
    GUO Shuaike, HU Xunxiang, TENG Changqing, et al.Ion Irradiation Behavior of Additively Manufactured Silicon Carbide Microstructure[J].Electric Welding Machine, 2026, 56(4): 98-104. DOI: 10.7512/j.issn.1001-2303.2026.04.12.
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